Samsung investirá US$ 300 milhões em novo centro de P&D no Vale do Silício

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A Samsung irá investir US$ 300 milhões em um novo centro de pesquisa e desenvolvimento (P&D) no Vale do Silício, na Califórnia, que deve ser inaugurado até o fim de 2015, segundo informações do site Business Insider. Em fase de construção, a nova unidade de 1,1 milhão de metros quadrados servirá como sede norte-americana da Samsung para dispositivos móveis.

Sem revelar quantos funcionários serão contratados para atuar no novo centro, Bob Brennan, vice-presidente do laboratório de memória e sistemas e aplicações da Samsung, apenas declarou que será um "número expressivo". De acordo com o executivo, a proximidade com startups inovadoras no Vale do Silício pode levar a uma maior colaboração e melhores ideias. "A região nos permite sintetizar soluções que sejam mais inovadoras e mais atraentes do que poderíamos ter de outra forma", disse ele.

O novo centro de P&D no Vale do Silício é parte do esforço contínuo da Samsung em desenvolver novas tecnologias para fomentar seu crescimento. A empresa possui atualmente 10 outros laboratórios de P&D nos EUA, dos quais sete estão localizados no Vale do Silício, onde mais de 500 pesquisadores trabalham nas operações da região.

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